半导体洁净室气体分析监测系统通过污染物源头控制、传播控制，实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来实现，持久监测AMC浓度，有助于掌握污染物源头、稳定生产、预防过滤器突发性寿命减少等。

空气分子污染物监测系统快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。深紫外光刻工艺特别关注氨、胺类、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸类等浓度测量，当这些气体与化学放大光刻胶反生反应 时，将深深的影响半导体器件质量。

洁净室环境中的空气分子污染物AMC，内部来自建筑材料释出、设备和材料释出、腐蚀和光刻等工艺过程中化学药品逸散、人员产生、管路泄露、设备维护修理时散发等，外部来自环境空气中存在的气相污染物，以及洁净室的废气排放重新送回洁净室。

实时监测气态分子污染物AMC 高灵敏度的DKG ONE-CF4可以在生产环境中快速的探测污染物。另外，直接吸收式的检测因其零背景的性质，可保证长期高稳定性。DKG ONE-CF4可与其他检测仪器，如颗粒物监测仪等，整合在一个机柜里。

AMC空气分子污染物VOC监测系统对于高科技生产过程是关键性因素，特别是微电子行业，有机污染物是生产过程中的消极因素，会导致高科技公司因产品质量问题而产生的成本增加。