随着现代化和城市化进程的日益加深，人们在室内的时间越来越多，因而对室内空气品质的要求也日益提高。
室内空气品质取决于很多方面，包括温湿度、二氧化碳、挥发性有机化合物的浓度等。而用于调节和改善室内空气品质的有效方式之一就是示踪气体法半导体制造设备通风性能监测系统。

示踪气体法半导体制造设备通风性能监测系统概述

随着能量效率的提高，以及排气通风设施的物理限制变得更加明显，半导体设备的排气通风的优化变得越来越重要。设备的排气通风设计不合理，可能会造成操作人员的伤亡，引起设备乃至整个工厂的烧毁。

半导体行业需要测量机台通风效率，满足SEMI S6 Ventilation行业标准。

SEMI S6 Ventilation是使用示踪气体测定逸散性排放的试验方法，考量含 HPM或易燃易爆气体的半导体装备通风效率。

SF6作为示踪气体模拟泄漏气体，因此，对SF6检测仪的检测精度要求较高。

检测方案

高灵敏度的光声光谱气体检测系统，是一套用于在线实时测量示踪气体浓度变化，从而评估通风效率的准确、可靠、高效的解决方案。

光声光谱气体分析仪可以同时检测多9种气体和水汽，检测气体种类是从一个超过300种的气体数据库中由用户选择。除了SF6等示踪气体之外，还可以同时检测室内其它的气体浓度，比如CO₂、甲醛、苯系物等VOC，为评价半导体机台通风效率提供更多的数据支持。

整个测量系统由光声光谱气体检测仪、多点采样器、专用软件组成；在用户要求的情况下，还可以集成释放装置MFC，管路等一体化解决方案。

示踪气体法半导体制造设备通风性能监测系统特性

• 光声光谱法原理，悬臂梁探测技术

• 可同时测量SF6等多种示踪气体及VOC

• 检测限低，测量精度高(ppb)

• 测量响应快

• 多点采样器，可扩展12-64个采样点

• 无需预处理、无耗材、无载气

• 可定制释放装置和管路

应用

• 半导体制造设备通风性能检测（国际半导体协会SEMI S6标准）

• SF6泄露检测