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空气分子污染物监测系统
产品简介

空气分子污染物监测系统快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。深紫外光刻工艺特别关注氨、胺类、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸类等浓度测量,当这些气体与化学放大光刻胶反生反应 时,将深深的影响半导体器件质量。

产品型号:猎户座 3100S
更新时间:2024-06-25
厂商性质:经销商
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品牌杜克泰克产地国产

猎户座3100系统:完善的空气分子污染物监测系统

实时监测空气分子污染(AMC )对于半导体生产过程极为重要。

快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。深紫外光刻工艺特别关注氨、胺类、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸类等浓度测量,当这些气体与化学放大光刻胶反生反应 时,将深深的影响半导体器件质量。

 

传统古老的方法多采用间接测量分析方法。包括撞击滤尘器、离子色谱、化学荧光法,这些方法分析速度太慢,操作过程太复杂,昂贵并且测量结果不精确。

 

CEAS (腔增强吸收光谱)---原理

基于CEAS(腔增强吸收光谱)技术的仪器原理图,使用近红外波段光进行高灵敏度吸收测量,测量腔室由一组高反射率多次反射镜片组成的柱状体构成,激光束经过固态校准器(FSR=2.00GHz)时会测量得到相对激光波长。为了保证清晰度,忽略了原本照射到左侧测量单元腔镜外的光束。

 

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