半导体洁净室气体分析监测系统通过污染物源头控制、传播控制，实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来实现，持久监测AMC浓度，有助于掌握污染物源头、稳定生产、预防过滤器突发性寿命减少等。

EDK 6900P系列TDL激光微量便携气体分析仪高灵敏度和宽的动态量程，是可调谐半导体激光器光谱（TDLS）技术的基本特性，可用于测量sub-ppm到%范围的气体。

TDL激光微量在线气体分析仪基于非色散紫外吸收光谱NDUV技术来对氢气中Cl2进行分析。NDUV非色散紫外吸收光谱技术是确定复杂气体混合物中浓度的一种普遍方法。

空气分子污染物监测系统快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。深紫外光刻工艺特别关注氨、胺类、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸类等浓度测量，当这些气体与化学放大光刻胶反生反应 时，将深深的影响半导体器件质量。

洁净室环境中的空气分子污染物AMC，内部来自建筑材料释出、设备和材料释出、腐蚀和光刻等工艺过程中化学药品逸散、人员产生、管路泄露、设备维护修理时散发等，外部来自环境空气中存在的气相污染物，以及洁净室的废气排放重新送回洁净室。